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集微网消息,近日,上海精测半导体光学关键尺寸(OCD)测量设备EPROFILE 300FD再度通过关键客户28nm工艺验证,顺利进入量产生产线并全面投入使

集微网消息,近日,上海精测半导体光学关键尺寸(OCD)测量设备EPROFILE 300FD再度通过关键客户28nm工艺验证,顺利进入量产生产线并全面投入使用,获得多家客户认可。

图源:上海精测半导体

据悉,光学关键尺寸(OCD)测量设备是半导体先进制程所必需的关键设备,此类设备面临技术开发难度大、产品应用建模复杂度高以及工艺验证周期长等诸多挑战。

上海精测半导体官方消息显示,自2018年成立以来,依托子公司颐光科技在此领域近十年的技术积累,上海精测半导体聚集产业界各路技术专家,相继完成了包括设备硬件系统、软件算法、稳定性动态补偿、在线matching校准、工艺应用等在内的多项高难度技术攻关,开发出了国内独有、具备完全自主知识产权的光学关键尺寸(OCD)测量设备,且该测量设备的核心部件-RCRC全穆勒椭偏光谱测头、高稳定性整机平台及工业级电磁场仿真平台软件均实现自主国产化。(校对/诺离)